北方华创发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机

近日，北方华创正式发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及常规介质材料的刻蚀工艺。【温馨提示】本文内容和观点为作者所有，本站只提供信息存储空间服务，如有涉嫌抄袭/侵权/违规内容请联系QQ：275171283 删除！